第二只靴子终于落下了——在美国宣布美日荷三方芯片协议之后，具体的协议内容却一直处于烟笼雾绕的状态，谁也看不清内容的真相是什么。但是在3月8日作为参与方之一的荷兰终于发布了正式表态：将会对“最先进”的半导体设备进行封锁（The Dutch government has said it will impose export restrictions on the “most advanced” semiconductor technology）。

其中着重提到了“DUV”（深紫外线）这项技术，这是仅次于“EUV”（极紫外线）之外最为先进的光刻机，也被国内众多芯片厂商所广泛采用，在28nm等成熟制程中拥有广泛的使用前景。

根据ASML的财报显示，自2014年开始向中国出售了超过80亿美元的DUV光刻机设备。按照DUV光刻机平均一台1000万左右的价格计算，这也就意味着在8年的时间中，累计出售的DUV光刻机数量为800台,平均每年向中国出售的光刻机数量高达100台，这其实已经是一个不小的数目了。

那么为什么会说800台光刻机受到影响呢？因为荷兰方面的声明中留下了一个重大的问题点——在新的出口管制措施开始施行之后，之前已经出售的800台光刻机的维护服务也成为了一桩悬案。

作为最精密的仪器，光刻机从来不是一锤子买卖，生产不同制程、不同种类的芯片也都需要重新对光刻机进行调整。而由于DUV光刻机中带有防止“逆工程化”的模块，因此一旦不经过ASML的允许而擅自调整，那么这台光刻机就有报废的风险。

那么为什么ASML不得不接受美国提出的三方芯片协议？这也和ASML自己曾经的选择有关。在21世纪初，为了击败尼康和佳能这两大主要光刻机竞争对手，作为后来者的ASML加入了由包括英特尔、IBM、AMD在内的美企主导的EUV LLC联盟，并由此获得了EUV技术，因此也成为全球仅有的有能力制造EUV光刻机的厂商。

EUV光刻机技术让ASML后来居上成为全球最大的光刻机设备制造厂商，但同时也成为了ASML最大的枷锁——作为加入EUV LLC付出的代价，ASML必须从美国厂商处采购占比为50%的零件。

这也是ASML不得不接受芯片三方协议的根本原因。但是在荷兰公布三方协议之后，ASML面对巨大损失的同时并没有坐以待毙，而是做出了自己的解释。对于最先进的设备（“most advanced”），ASML认为是TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。

这实际上也是ASML在加入芯片协议之后给出自己的条件——TWINSCANNXT：2000i以及更先进的光刻机可以如美国所愿断供，但是比其落后的光刻机则不应该在断供之列。可以说ASML为了保住自己的利润也是煞费苦心。

芯片协议造成的影响首当其冲就是包括中芯国际、华虹国际在内的芯片制造厂商。不仅仅是获取新光刻机的难度增加，已有光刻机的维修和维护同样成为巨大的难题。

但正所谓走的人多了就有了路，ASML的决定也将倒逼上海微电子等国产光刻机厂商的进步和发展。以往很多厂商迷信ASML的技术和名声，如今在国产光刻机成为唯一选择之后，也将带来更多的订单和利润。通过将利润投入到研发中去，国产光刻机突破的那一天终将到来。