新收益众所周知，由于外部环境发生改变，三星、台积电等芯片代工机构，目前无法为中企华为提供芯片代工服务。加上今年老美与日本、荷兰达成的三方协议，国内芯片产业链的发展，正在被迫向一条自给自足的道路进行前进。

而想要实现高端芯片的本土化制造，EUV光刻机等芯片制造设备的科研攻关，就必须走在最前面。受制于《瓦森纳协定》以及大家都知道的原因，中企向ASML采购光刻机等芯片制造设备的难度，正在一年一年的增加。近期，清华大学传出消息，国产EUV光源无惧西方断供，ASML总裁果然没说错！

据了解，近期清华大学公开了一篇SSMB-EUV光源方案（稳态微聚束）的论文，该论文描述了一种可以产出EUV光源的装置的设计方案。光源功率可以超过10kW，是ASML即将推出2纳米光刻机的20倍以上，并且，该方案不只存在于理论，目前在德国亥姆霍兹柏林中心的加速器储存环上，已经完成了理论的验证工作。

笔者也查看了相关论文，简单来讲与荷兰ASMLEUV光源技术路线完全不同。对方为了方便生产，并向海外运输EUV光刻设备，采用的是LPP-EUV（激光等离子体光源）技术，也就是用大功率的红外激光轰击到锡金属液滴上，来获得极紫外光。

这难度就相当于是站在一千米之外投篮，而且要精准的命中篮筐。而清华大学的新方案，直接绕开了投篮的环节，通过粒子加速器加速电子，来获取足够多的极紫外光，来生产符合芯片光刻要求的极紫外光。

光源的产生过程可以比作是烧开水，ASML是可以把一瓶水精准的烧到99.9℃。而清华大学的技术方案，则类似于先烧一大锅水出来，在用一根细长的管子进行引导，水流的越远温度就会越低，总有一段温度恰好是99.9℃，可以用于生产高端的芯片。

在国内建设该装置的好处就是，可以依靠本土化的芯片产业链来生产高端的芯片产品，并且，通过该装置不仅可以生产出极紫外光，理论上还可以制造波长更短的其他光。而该装置一旦建成投入使用，国内自然也就无惧西方断供光刻机光源了。

新的技术路线，不仅避免了西方的专利封锁，还有可能因此改变全球EUV光刻市场的格局。当年我国在尝试制造最先进的导弹时，钱学森就曾讲过：“工业基础薄弱，积累不足时，不要追求某方面的先进性，只能追求整体的合理性。”至于很多人提到的成本问题，自然也不是现阶段需要考虑的问题。

高端的芯片产品，目前花多少钱，美国企业都是无法卖给我们的。与其坐以待毙，不如奋力一搏，通过国产的光刻解决方案，来自己制造高端的芯片产品。

毕竟，设备的制造成本和迭代，都是需要时间和资金投入来进行推进的。当下，方案已经有了，成本控制只需要在后续的迭代中进行。更何况，ASML在生产出第一台EUV光刻机时，当时不也一样遇到了成本无法控制的问题吗？目前我们只需要推进该方案，等国际市场做出改变就可以了。

ASML总裁果然没说错！

据《观察者网》报道，前不久荷兰ASML总裁温宁克在接受采访方式表示，“完全鼓励中国是没有希望的。如果我们不分享技术，它们就会自己去研究。”中国有14亿人，其中很多人都很聪明。它们会提出我们还没有想到的解决方案。你（西方）在迫使他们变得非常创新。

显而易见，ASML总裁的话果然没有说错，清华大学SSMB-EUV光源方案的公开。就意味着国内，已经开始对EUV光源技术进行创新并加以实践。中国的新能源汽车可以做到全世界最好，半导体就一样也能够做到。

西方对国内的制裁和管制，最终，只会导致国内出现独立、自主的高端芯片产业链。就如同微软创始人比尔盖茨所说的那样，“限制美国企业向中国公司出口芯片，只会导致部分美国人丢失掉自己原本的高薪工作，中国则会逐步实现自给自足。”

在1964年之前，中国没有属于自己的核武器；2008年之前，中国也没有具有自主知识产权的复合式盾构机。最终呢，在西方的技术封锁下，核武器我们有了，盾构机也做到了全球领先，外界的封锁只能延缓，但完全不能够阻止中国的技术突破。

反观美方采取的芯片管制，却已经让一部分美企开始感到“透不过气”来。前不久，美国的三大芯片巨头高通、英伟达、英特尔CEO，就前往华盛顿对芯片出口问题进行游说，希望美国放宽部分芯片产品的出口。

因为这些企业清楚的知道，一旦中企实现产品的技术突破，就不会继续从它们手中采购芯片。美国所推行的芯片管制，最终，只能限制美国自身科技公司的创新，却不会对国内市场带来更加严重的后果。对此，你又是怎么看的呢？欢迎大家留言、讨论！