作为光刻机巨头，ASML并不想被限制出货，但美一直都在修改规则，并对ASML游说，不仅通过瓦森纳协定，限制EUV光刻机出货，还想限制主流DUV光刻机出货。

被AMSL拒绝后，美就拉上日荷签订了三方协议，该协议限制日本出货23种半导体产品，像光刻机、镀膜机等，限制荷兰出货主流的DUV光刻机，即2000i等后续型号。

日本早就落实了三方协议，限制相关半导体设备出货。荷兰则表示将配合美进行相关半导体设备的出口管制，9月1日生效。

如今，光刻机新规落地，按照三方协议内容，荷兰已经开始限制2000i及后续型号的光刻机出货。

被限制的2000i及后续型号的光刻机，是EUV光刻机的过渡产品，可将芯片制程缩小至5nm。

未来ASML只能出货1980i等型号的光刻机，这些光刻机在多重曝光工艺下，可将芯片制程缩小至7nm。

但ASML早就公开表示，第二三季度来自国内市场的营收将会明显增加，这意味着向国内出货的光刻机数量也会明显增多。

数据显示，ASML第二季度共计出货光刻机113台，其中27台光刻机都出货到了国内。

即便如此，ASML仍表示中国厂商准备很充足，目前的出货量仅满足其需求的50%。第三季度出货量有望增加，并积极申请出货许可。

其实，ASML第三季度向国内的出货量会增加。

台积电被限制前，其就挪用了产能，尤其生产华为订单，并赶在最后期限出货了，ASML自然也会这么做，9月1日前肯定是尽可能出货先进型号的光刻机。

毕竟，ASML未交付的光刻机订单中，来自国内的订单占比就高达20%，总金额超过600亿元，失去这些订单，对ASML将是沉重的打击。

更何况，先进工艺产能已经过剩，台积电、英特尔等巨头不仅削减资本开支，还砍掉了部分EUV光刻机，导致ASML新增订单量减少了40%。

DUV光刻机已经成为ASML出货的主流产品，贡献了大量的营收和利润，而中国市场又是ASML第三大市场，ASML不可能放弃的。

ASML已经明确表示将申请出货许可，目的是向国内出货更多先进型号的光刻机。

一方面是因为国内是全球最大的芯片消费市场，又最大的新能源汽车产销国，新能源汽车给成熟工艺芯片带来了巨大的机遇，这个机遇比智能手机还大。

中芯国际连续四次扩大产能，预计今年年底将会有折合8寸晶圆超70片，月产各种芯片最高可达1.4亿颗，这意味着仅中芯国际就需要大量的光刻机。

另外，进口芯片数量持续减少，今年前七个月就减少超545亿，国内还将实现七成芯片在国内制造，自然也需要大量的光刻机、

最主要的是，上海微电子的光刻机技术不断突破，国内产业链已经有能力打造DUVi光刻机，在多重曝光工艺下，可将芯片制程缩小至7nm。

李楠公开称，未来12个月内，国内将会实现非美7nm全流程，这意味着国产先进光刻机不远了。

上海微电子已经拿下了国内八成光刻机市场，DUVi光刻机量产后，其市场份额必然会进一步提升，ASML在国内的市场份额自然也会下降，甚至是退出国内市场。

所以AMSL积极申请许可，并尽可能向国内出货光刻机。认同的请点赞，欢迎留言探讨分享。