光刻机是生产制造芯片的必要设备，全球范围内，只有四家企业可以生产制造光刻机，日本两家，中国一家，荷兰一家。

数据显示，上海微电子生产制造的光刻机拿下国内八成市场，占领了全球四成的市场，尤其是封装光刻机，上海微电子的市场地位不可小觑。

但ASML是全球光刻机制造技术最先进的厂商，主要生产制造中高端光刻机，其中，DUV光刻机主要生产制造7nm以上芯片，EUV光刻机制造7nm以下芯片。

国内厂商购买ASML的EUV光刻机，但由于瓦森纳协定，导致ASML无法交付。

但美还想进一步限制ASML出货，游说其收紧DUV光刻机的出货范围，但被ASML回绝了。

结果美日荷就签订了三方协议，目的是限制荷兰出货主流的DUV光刻机，荷兰已经官宣，将限制2000i等型号的DUV光刻机出货，9月1日生效。

据悉，2000i等型号的DUV光刻机是EUV光刻机的过渡产品，可以将芯片制程缩小至5nm，EUV光刻机不能出货后，其便成了国内厂商购买的主力型号。

中芯国际一次性购买价值了11亿美元的光刻机，长虹半导体也购入该型号光刻机。

如今，荷兰已决定限制出货，这些型号的光刻机将不能出货，未来将持续出货1980i等更早期型号的光刻机。

但三方协议的签订，导致ASML不乐意，其明确表示中国市场至关重要，将会向中国厂商出货更多光刻机。

因为国内市场是ASML第三大市场，市场占比超过14%，由于美不断修改规则，ASML国内市场的份额降至8%，这已经是说再见了。

荷兰决定进一步限制出货光刻机，这对于ASML而言，又将会是一个巨大的损失。

数据显示，国内是全球最大的芯片消费市场，越来越多的芯片在国内生产制造，对光刻机的需求也是巨大的。

ASML未交付的订单金额超389亿元，其中来自国内的订单超过20%，三方协议签订后，ASML新增订单数量同比下滑46%，而这些未交付的订单也可能面临无法交付。

当然，国内厂商说再见，降低对ASML光刻机的依赖，主要因为两点。

首先，国产光刻机技术不断突破，90nm光刻机已经突破，在多种曝光工艺下，用于生产制造成熟工艺等芯片。

上海微电子28nm精度的光刻机也突破了技术验证，量产只是时间问题。更何况，中科院已经突破更先进的光源技术，并打造出来的原型机。

其次，华为等国内厂商都在想法绕开美技术，自然要绕开ASML的光刻机，其中，28nm工艺的风险持续降低，华为还联合国内厂商完成了14nm以上EDA工具国产化。

中芯国际明确表示，14nm等工艺订单已经恢复到芯片规则修改前的水准，这意味着14nm工艺去美化也差不多了。

另外，华为等国内厂商还积极研发堆叠芯片、量子芯片、光电芯片等产品，这些芯片都降低了对光刻机的依赖，甚至还能完全绕开了ASML的光刻机。

尤其是光电芯片，荷兰都宣布投资11亿欧元进行研发。

所以荷兰ASML才说中企已经说再见了。认同的请点赞，欢迎留言探讨分享。